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    鉬靶材
    
		
    

				
    
			
    
				
				
				
			
    
			
    
				
      
											
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鉬旋轉靶采用熱等靜壓工藝制備制得，尺寸根據客戶要求定制。
    
鉬平面靶采用熱等靜壓工藝制備制得，尺寸根據客戶要求定制。
    

    
純度：99.95-99.97%%
    
應用領域：太陽能薄膜行業、平板顯示行業、低輻射玻璃行業、半導體行業、光學涂層、智能顯示行業及工具裝飾行業。
    

    
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