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    鎳靶材
    
		
    

				
    
			
    
				
				
				
			
    
			
    
				
      
											
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鎳旋轉靶采用冷壓成型工藝和真空熱壓燒結工藝或噴涂工藝制得，尺寸及純度根據客戶要求定制。
    
鎳平面靶采用冷壓成型工藝和真空熱壓燒結工藝制得，尺寸及純度根據客戶要求定制。
    

    
純度：99.9-99.9995%
    
應用領域：半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、工件表面涂層等。
    

    
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