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    銅靶材
    
		
    

				
    
			
    
				
				
				
			
    
			
    
				
      
											
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銅旋轉靶通過對高純銅擠壓、拉伸、校直、熱處理，機加工等多種工序制得，尺寸及純度根據客戶要求定制。
    
銅平面靶通過對高純銅錠機加工等工序制得，尺寸及純度根據客戶要求定制。
    

    
純度：99.99-99.9999%，其中氧含量可以<10ppm，細小均勻的微觀組織。
    
應用領域：顯示屏及觸摸屏配線及其保護膜，太陽能光吸收層、半導體配線，裝飾鍍膜等行業。
    

    
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