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    氧化鈦陶瓷靶材



    氧化鈦旋轉靶采用等離子噴涂工藝制得,尺寸及純度根據客戶要求定制。
    氧化鈦平面靶采用熱壓燒結工藝制得,一般綁定在銅背板上使用,尺寸及純度根據客戶要求定制。


    純度:99.99%;電阻率(20°C): ≤ 0.3Ω.cm。
    應用領域:光學玻璃鍍膜,LOW-E鍍膜玻璃,薄膜太陽能鍍膜、平板顯示鍍膜、裝飾鍍膜。


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