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    鉭靶材
    
		
    

				
    
			
    
				
				
				
			
    
			
    
				
      
											
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鉭旋轉(zhuǎn)靶采用真空熔煉工藝制得，尺寸及純度根據(jù)客戶要求定制。
    
鉭平面靶采用真空熔煉工藝制得，尺寸及純度根據(jù)客戶要求定制。
    

    
純度：99.95-99.99%
    
應(yīng)用領(lǐng)域：半導(dǎo)體鍍膜行業(yè)和光學(xué)鍍膜工業(yè)。
    

    
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